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廈門韞茂科技有限公司成立于2018年,由硅谷海歸團隊創立,核心成員擁有超20年薄膜沉積工藝及設備開發產業化經驗,2021年入選高新技術企業,2022年入選廈門專精特新技術企業,是一家以納米級薄膜沉積工藝技術為核心的多領域全棧式薄膜沉積方案供應商,為客戶提供全面的技術解決方案以及先進的納米材料薄膜沉積裝備,針對先進制造國產化的痛點,開發自主設備。

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  • 分子層沉積技術是一種薄膜沉積方法,它通過逐層控制化學反應來精確控制薄膜的生長。在半導體工業中,已經成為制造集成電路的關鍵工藝之一,并展現出廣闊的應用前景。半導體工業對薄膜沉積技術的要求極為嚴格,因為薄膜的性質直接影響到半導體器件的性能和壽命。之所以在這一領域受到重視,原因在于它具有以下幾個優點:1.厚度控制:可以精確地控制薄膜的原子層厚度,這對于制造納米尺度的半導體器件尤其重要。2.表面覆蓋:可以很好地覆蓋復雜形狀的基材表面,這對于形成均勻的薄膜是至關重要的。3.溫度適應性:...
  • 電子束蒸發鍍膜是一種常用的表面涂層技術,它利用電子束加熱材料至高溫,使其蒸發并形成蒸汽,然后這些蒸汽會在冷卻的過程中沉積在基材表面形成薄膜。這種技術在材料科學、微納加工、光學和電子學等領域有廣泛應用。物理特性:1.高真空環境:過程通常在高真空環境中進行,以避免蒸汽在到達基材之前與空氣中的分子發生不必要的化學反應。2.高溫蒸發:被電子束擊中的材料會瞬間加熱至較高溫度,足以使其蒸發形成蒸汽。3.蒸發速率:電子束的功率密度和材料的熱物理性質決定了蒸發速率,進而影響鍍膜的厚度和均勻性...
  • 磁控濺射鍍膜機由于其優良的性能,如高沉積速率、良好的薄膜質量以及能夠在復雜形狀的基材上沉積薄膜等,被廣泛應用于各種工業領域。然而,如何選擇目標材料并優化工藝以提高鍍膜效率及質量,仍是一個需要深入研究的問題。一、目標材料的選擇在選擇目標材料時,需要考慮材料的物理化學性質、穩定性、附著性等多個因素。一些常用的磁控濺射鍍膜材料包括金、銀、銅、鋁、鈦、鎳等金屬及其合金。對于不同的應用場景,需要選擇不同的材料。例如,金和銀由于其優良的導電性和穩定性,常常被用于電子工業;而鈦和鎳由于其良...

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  • 高效能磁控濺射鍍膜機是現代薄膜制備技術的重要工具,其技術細節和應用案例廣泛且深入。以下是對其技術細節和應用案例的簡要介紹:一、技術細節靶材與基片的處理:為確保濺射效果,靶材背面和濺射靶表面的結合經過特殊處理,以減少接觸電阻,防止靶材發熱升溫,確保鍍膜質量。調整靈活性:基片和靶材之間的距離以及磁控濺射靶頭的角度均可調整,以適應不同靶材的成膜工藝要求,并優化鍍膜的均勻性。一體化柜式結構:設備采用一體化柜式結構,占地面積小,且操作安全性高。先進的控制系統:采用計算機+PLC兩級控制...
  • 磁控濺射鍍膜機作為一種先進的表面處理技術,具有顯著的優勢,同時也存在一些劣勢。以下是針對其優勢和劣勢的詳細分析:優勢:基板低溫性:相對于二級濺射和熱蒸發來說,磁控濺射加熱少,有利于實現織物的上濺射。高沉積率:在沉積大部分的金屬薄膜,尤其是高熔點的金屬和氧化物薄膜時,如濺射鎢、鋁薄膜和反應濺射TiO2、ZrO2薄膜,具有很高的沉積率。環保工藝:磁控濺射鍍膜法生產效率高,且沒有環境污染,相較于傳統的濕法電鍍具有明顯優勢。涂層牢固性好:濺射薄膜與基板有著的附著力,機械強度也得到了改...
  • 桌面式原子層沉積系統是一種緊湊型、用戶友好的薄膜沉積設備,它在科學研究和工業應用中提供了一種高效且精確的涂覆解決方案。該系統的設計旨在提供實驗室級別的薄膜沉積能力,同時占用的空間較小。它們通常配備有直觀的用戶界面,如觸摸屏或計算機軟件,使得用戶能夠輕松進行設備的操作和參數設置。系統的操作流程往往被簡化,以確保即使是沒有專業技能的用戶也能快速學會如何使用。簡易操作主要體現在以下幾個方面:1.直觀的用戶界面:圖形化界面使得操作者能夠快速理解和設置各種沉積參數。2.自動化過程:系統...

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