真空鍍膜系統主要構成部分，你知道幾個？

　　涂層設備主要有連續涂層生產線及單室涂層機兩種形式，不銹鋼材料制造、氬弧焊接、表面進行化學拋光處理，真空室組件上焊有各種規格的法蘭接口。

　　2、真空獲得部分

　　在真空技術中，真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設備和方法所能達到的，必須將幾種泵聯合使用，如機械泵、羅茨泵、分子泵系統等。

　　3、真空測量部分

　　真空系統的真空測量部分，就是要對真空室內的壓強進行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計能測量整個真空范圍，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計。如熱偶計，電離計，皮拉尼計等。

　　4、電源供給部分

　　靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈沖電源、射頻電源(RF)，常見的電源廠商有AE,ADL,霍廷格等。

　　5、工藝氣體輸入系統

　　工藝氣體，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應，經氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電磁閥、壓電閥，然后通入真空室。這種氣體輸入系統的優點是，管路簡捷、明快，維修或更換氣瓶容易。各涂層機之間互不影響。也有多臺涂層機共用一組氣瓶的情況，這種情況在一些規模較大的涂層車間可能有機會看到。它的好處是，減少氣瓶占用量，統一規劃、統一布局。缺點是，由于接頭增多，使漏氣機會增加。而且，各涂層機之間會互相干擾，一臺涂層機的管路漏氣，有可能會影響到其他涂層機的產品質量。此外，更換氣瓶時，必須保證所有機臺都處于非用氣狀態。

　　6、機械傳動部分

　　涂層要求周邊必須厚度均勻一致，因此，在涂層過程中須有三個轉動量才能滿足要求。即在要求大工件臺轉動(I)的同時，小的工件承載臺也轉動(II),并且工件本身還能同時自轉(III)。在機械設計上，一般是在大工件轉盤底部中央為一大的主動齒輪，周圍是一些小的星行輪與之嚙合，如果要實現產品自轉的話，一般用撥叉撥動工件自轉。

　　7、加熱及測溫部分

　　涂層設備一般有不同位置的加熱器，用熱電偶測控溫度。但是，由于熱電偶裝夾的位置與工件位置不同，溫度讀數不可能是工件的真實溫度。要想測得工件的真實溫度，有很多方法，可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計。

　　8、離子蒸發及濺射源

　　多弧鍍的蒸發源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵，通過前后移動磁鐵，改變磁場強度，可調整弧斑移動速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導電、導熱性，還可以在靶與靶座之間加錫墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長方形或圓柱形濺射陰極。

　　9、水冷系統

　　一般由冷水塔，冰水機，水泵等組成。