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雙腔室超高真空磁控濺射系統

簡要描述:雙腔室超高真空磁控濺射系統QBT-P配備進樣室及濺射腔室,濺射室配備離子刻蝕功能,腔室內配備超高真空傳輸,設備真空度≤3E-9Torr,基板加熱900℃,可制備超導Ta/TiN/NbN/Al/Nb等薄膜

  • 產品型號:QBT-P
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-11-24
  • 訪  問  量:1109

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詳細介紹

一、雙腔室超高真空磁控濺射系統核心參數:  


儀器種類:磁控濺射 

產地類別:國產  

應用領域:微電子學  

基片尺寸:4寸(可定制)  

靶材:鉭  

基片溫度范圍:RT-900oC  

成膜厚度均勻性:基板刻蝕均一性<3%  

極限真空:極限真空UltimatePressure<3E-9Torr  


二、磁控濺射技術原理:  

在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場。當濺射產生的二次電子在陰極位降區內被加速為高能電子后,并不直接飛向陽極,而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運動。高能電子不斷與氣體分子發生碰撞并向后者轉移能量,使之電離而本身變成低能電子。這些低能電子最終沿磁力線漂移到陰極附近的輔助陽極而被吸收,避免高能電子對極板的強烈轟擊,消除了二級濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷,體現出磁控濺射中極板“低溫"的特點。由于外加磁場的存在,電子的復雜運動增加了電離率,實現了高速濺射。  


三、雙腔室超高真空磁控濺射系統技術特點:  

成膜速率高,基片溫度低,膜的粘附性好 


四、售后服務:  

保修期:1年  

是否可延長保修期:否  

現場技術咨詢:有  

免費培訓:1.設備出廠前,提供至少2人一周的設備原廠培訓。2.設備在現場完成安裝調試  

免費儀器保養:有需要可安排  

保內維修承諾:保修期內(除天災和人為損害外)部件、元件費用、出差費用均由我司承擔  

報修承諾:質保期內出現故障時我司將及時響應,并在8小時內派技術人員到現場解決故障;  


五、技術參數:  

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六、工藝展示:

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